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汇成真空:原子层堆积设备仍在研制中

时间:2025-03-01 01:41:39 来源:大发官网技巧 已有 1 人关注

  

汇成真空:原子层堆积设备仍在研制中

  金融界1月16日音讯,有投入资金的人在互动渠道向汇成真空发问:贵司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网,公司原子层堆积(ALD)技能是将物质以单原子膜方式过循环反响逐层堆积在基底外表,形成对杂乱描摹的基底外表全覆盖成膜的办法,在结构较为杂乱、薄膜厚度要求精准的先进逻辑芯片、DRAM和3D NAND制作中,ALD是必不可少的中心设备之一。先进逻辑芯片是指算力相关的芯片吗?现在公司有客户运用贵司的ALD设备吗?

  公司答复表明:公司原子层堆积相关设备仍在研制中,请继续重视公司定时陈述。

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